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掺杂浓度对Mo-In2O3薄膜的性能影响，胡岗，孙志刚，采用真空蒸渡法合成了Mo掺杂In2O3（简称IMO）稀磁半导体薄膜，研究了Mo掺杂量对IMO薄膜的结构、形貌、电输运性能和磁性能的影响。研究
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