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AlN/Si(111)复合衬底上4H-SiC薄膜的阴极荧光特性，吴军，韩平，本工作利用化学气相淀积（CVD）方法在AlN/Si(111)复合衬底上成功异质外延生长了4H-SiC薄膜；用X射线衍射（XRD）、拉曼散射（Raman）、阴极�
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